Filtr UV K&F CONCEPT KF01.2882 do FujiFilm Czarny

Czysty obraz, naturalne kolory – zawsze

Filtr UV K&F CONCEPT NANO-X MRC to obowiązkowe akcesorium dla każdego fotografa – niezależnie, czy fotografujesz w górach, nad morzem czy w miejskiej dżungli. Skutecznie eliminuje efekt zamglenia i poprawia kontrast, dzięki czemu zdjęcia są czystsze, ostrzejsze i pełne detali – bez ingerencji w kolorystykę.

Redukcja promieniowania UV i ochrona przed odblaskami

Filtr pochłania promieniowanie ultrafioletowe, szczególnie silne w warunkach wysokiej przejrzystości powietrza. Dzięki zastosowanym nano-powłokom antyrefleksyjnym skutecznie ogranicza niechciane flary i refleksy, które mogłyby obniżyć jakość zdjęcia. Efekt? Perfekcyjna ostrość, bez rozmyć i świetlnych plam.

Ochrona obiektywu w każdej sytuacji

Ten filtr to nie tylko lepsze zdjęcia, ale też skuteczna ochrona frontowej soczewki aparatu przed kurzem, pyłem, wilgocią, tłuszczem i zarysowaniami. Nawet w trudnym terenie nie musisz się martwić o swój sprzęt. Warstwy nano skutecznie odpychają zabrudzenia i ułatwiają czyszczenie powierzchni filtra.

Technologia Nano-X – najwyższa jakość optyczna

Wysokiej klasy japońskie szkło optyczne gwarantuje ponad 99,9% przepuszczalności światła. Aż 28 warstw powłok ochronnych i antyrefleksyjnych zapewnia pełną przejrzystość i brak zniekształceń. Ultra cienka, aluminiowa ramka typu SLIM zapobiega winietowaniu i sprawia, że filtr idealnie współpracuje z szerokokątnymi obiektywami.

System magnetyczny – szybki montaż, pełna kompatybilność

Przednia rama filtra jest magnetyczna – bez problemu połączysz go z innymi magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT lub dedykowaną osłoną przeciwsłoneczną 52 mm. To szybka i wygodna opcja dla osób, które często zmieniają filtry w terenie.

W zestawie:

• Filtr UV K&F CONCEPT NANO-X MRC
• Solidne, sztywne etui ochronne

Kompatybilność z aparatami FujiFilm X100:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100